各院、系，附属单位：

国家知识产权局现已经开展第十九届中国专利奖评选工作，现将有关事宜通知如下：

　 一、申报条件

　　凡是在国家知识产权局申请专利，并同时具备以下条件的，均可以申报中国专利奖：

　 1．在2016年12月31日前（含12月31日，以授权公告日为准）被授予发明、实用新型或外观设计专利权（不含国防专利、保密专利）；

　　2．专利权稳定，技术或设计水平高，已实施并取得较好的经济效益或社会效益；

　　3．未曾获得过中国专利奖的有效专利；

　　4．专利权属关系清楚，无法律纠纷，且全体专利权人均同意申报。

　 二、申报材料

项目资料1份（用光盘存储，光盘上用标签标注“中国专利奖”及推荐单位名称），每个推荐项目包含：①中国专利奖申报书，②附件-如图片、照片、获奖证书、项目应用证明等材料扫描件，所有附件应嵌入一个word文档报送，大小不超过50M。

材料报送截止时间为2017年4月28日。

　　三、其他要求

　　1．一项专利填报一个项目。

　　2．鼓励推荐已解决本行业、本领域重要技术难题并取得显著经济效益的项目，获国外授权的专利项目，通过加强专利运用和保护扩大市场份额的项目。

联系人：范天豪 陈世浩

电话： 021-53510366 63846590*776150/776250

手机： 13764487840

Email：fantianhao@shsmu.edu.cn

地址：重庆南路227号 科教楼（东2）801室

附件：中国专利奖申报书

2017年4月5日